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High-K:由於二氧化矽（SiO2）具有易制性(Manufactur

High -K. 由於二氧化矽（SiO2）具有易制性(Manufacturability)，且能減少厚度以持續改善電晶體效能，因此過去40餘年來，處理器廠商均採用二氧化矽做為製作柵極電介質的 ...

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