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[반도체 공정] 박막공정(Thin film, Deposition)-3 - Zei는 공부중

HDP -CVD(High Density Plasma CVD). - STI, IMD, ILD 등에 이용. - CVD증착과 Sputter식각을 동시에 진행 (Dep-Etch-Dep)n. 출처-IOPscience.

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