你即將離開本站

並前往https://patents.justia.com/patent/6566263

Method of forming an HDP CVD oxide layer over a metal line ...

The present invention relates generally to the use of high density plasma (HDP) chemical vapor deposition (CVD) oxide as intermetal dielectric ...

確定！ 回上一頁

查詢 「HDP CVD」的人也找了：

  1. hdp cvd原理
    2.
  2. HDP CVD
    3.
  3. hdp cvd優點
    4.
  4. 高密度電漿化學氣相沉積
    5.
  5. hdp半導體
    6.
  6. Lam CVD
    7.
  7. HDP oxide
    8.
  8. pecvd原理
    9.