你即將離開本站

並前往https://www.ee.nsysu.edu.tw/service/doc/95DD11Y/Chapter%203b-thin%20film%20deposition%20&%20metallization.pdf

(b) Thin Film Deposition & Metallization - 中山大學電機系

Plasma Enhanced. CVD (PECVD). ▫ High Density Plasma. CVD (HDPCVD). Low temperature, fast deposition, good step coverage, good gap fill. Requires RF system,.

確定！ 回上一頁

查詢 「HDP CVD」的人也找了：

  1. hdp cvd原理
    2.
  2. HDP CVD
    3.
  3. hdp cvd優點
    4.
  4. 高密度電漿化學氣相沉積
    5.
  5. hdp半導體
    6.
  6. Lam CVD
    7.
  7. HDP oxide
    8.
  8. pecvd原理
    9.