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高密度電漿化學氣相沉積法製作低應力氮化矽薄膜於微機電應用 ...

論文名稱：, 高密度電漿化學氣相沉積法製作低應力氮化矽薄膜於微機電應用之研究. Fabrication of Low Stress HDP-CVD Silicon Nitride Films in MEMS Application.

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