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5nm晶片
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https://www.teema.org.tw/industry-information-detail.aspx?infoid=30890
從工藝和設計層切入漸破5nm“極限挑戰”
首先,以晶片製造流程中最核心的刻蝕和光刻工藝來看,比如刻蝕工藝從14nm到5nm ... 專業人士告訴記者:“當晶片設計人員完成IC設計時,設計圖形從檔案傳輸到光罩掩模。
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