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國產光刻機傳來好消息！28nm有望「突破」，未來將長驅直入

生產性能出色的晶片就需要更先進的光刻機，目前在光刻機領域的高端機型分為兩種，一種是ArFi光刻機，叫作浸沒式深紫外光刻機，還有一種大家熟悉的EUV光刻 ...

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