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非等向性蝕刻
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CH 4 微機電元件之關鍵製程蝕刻與LIGA. 蝕刻製程的功能...
微影製程前所沉積的薄膜,把沒被光阻覆蓋的部份以化學反應或物理作用的方式去除掉,已完成轉移光罩圖案到薄膜上面的目的。
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「非等向性蝕刻」
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