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加速特徵相關的乾式蝕刻製程發展- 電子技術設計 - EDN Taiwan

作為SEMulator3D中可視性蝕刻的示例，我們將使用剖面的二氧化矽(SiO2)和氮化矽(SiN)蝕刻製程模型來確保SADP柱孔關鍵尺寸的均勻性所需之最佳原子層 ...

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