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非等向性蝕刻
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反應式離子蝕刻機(Reactive Ion Etcher, RIE)
一般將蝕刻分為濕式蝕刻和乾式蝕刻,而乾式蝕刻(Dry Etching)又稱為電漿蝕刻(Plasma Etching)且屬於非等向性蝕刻,所以是目前最常使用的蝕刻方式 ...
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「非等向性蝕刻」
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