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電漿深蝕刻設備及其製程技術

深反應式離子蝕刻（Deep Reactive Ion Etch- ing, DRIE）是光電及半導體領域近年來最熱門. 且積極開發的乾式電漿蝕刻技術，具備極佳的. 非等向性蝕刻、高深度與高深寬 ...

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