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電漿表面處理
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TWI620228B - 電漿處理裝置與電漿處理方法
在步驟600中,在一電漿處理腔體內產生一平面電漿。在本實施例中,產生平面電漿的電場例如在2KV/cm~30 KV/cm之間,且調整平面電漿的電場,便能改變試片的表面的親、疏水性。
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