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半導體乾式蝕刻製程預防保養作業之化學性危害 - CNU IR

對現今蝕刻製程中最常被使用的乾式蝕刻（電漿蝕刻）機台，在進行預防保養期間可能產. 生的化學性危害，作一簡要的整理。 關鍵字：半導體，危害，化學性危害。

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