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乾蝕刻技術

乾式蝕刻：CF4(10 sccm)@60 mTorr. 台灣師範大學機電科技學系. C. R. Yang, NTNU MT. -4-. 乾蝕刻沒有液態的蝕刻. 溶液，主要分為物理濺. 擊或離子銑削、電漿蝕.

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