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以SF6/O2/Ar 感應偶合電漿蝕刻碳化矽材料 - CHUR

題目：以SF6/O2/Ar 感應偶合電漿蝕刻碳化矽材料. SF6/O2/Ar Inductively Coupled Plasma Etching of SiC. 系所別：機械與航太工程研究所. 學號姓名：M09408039 黃書瑋.

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