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乾蝕刻電漿– 蝕刻製程介紹 - Chudoina

一層的沉積，因此需利用電漿輔助乾蝕刻方式移除有機層以達到製作保護層的目的。 本研究之主要目標即為發展電漿輔助乾蝕刻設備所需的玻璃基板與金屬遮罩對位之演算方法 ...

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