你即將離開本站

並前往http://plasmaclean.blogspot.com/2009/07/blog-post_12.html

【技術資料】電漿蝕刻

電漿蝕刻 法係利用反應性氣體經過電漿解離活化產生具有蝕刻反應的粒子，包括離子、自由基或原子等，以含氟自由基蝕刻矽或二氧化矽為例，其反應如下式：Si(s) ...

確定！ 回上一頁

查詢 「電漿蝕刻機」的人也找了：

  1. 電漿蝕刻原理
    2.
  2. 乾蝕刻原理
    3.
  3. lam蝕刻機台ptt
    4.
  4. lam蝕刻機台
    5.
  5. 電 漿 蝕刻 優點
    6.
  6. 蝕刻選擇性
    7.
  7. 蝕刻製程
    8.
  8. 半導體乾蝕刻技術pdf
    9.