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訊息公告-最新消息 - 新竹科學園區管理局

ETCHER）、電漿輔助化學氣相沉積設備（PP2001D PECVD）、活性離子蝕刻 ... RIE）、高密度電漿化學氣相沉積設備（hdp CVD）、多腔式連續製程設備、射頻產生器（RF Power ...

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