你即將離開本站

並前往http://ir.lib.isu.edu.tw/retrieve/108815/isu-104-isu10204003m-1.pdf

蝕刻製程在不同晶圓載台轉速下之電漿流動的數值模擬

本文採用流體式模型之數值模擬，分析探討電漿行為，在相同功 ... 著增加，但蝕刻出的結果較傾向於等向性蝕刻，因此現在大部分的蝕刻機台會.

確定！ 回上一頁

查詢 「電漿蝕刻機」的人也找了：

  1. 電漿蝕刻原理
    2.
  2. 乾蝕刻原理
    3.
  3. lam蝕刻機台ptt
    4.
  4. lam蝕刻機台
    5.
  5. 電 漿 蝕刻 優點
    6.
  6. 蝕刻選擇性
    7.
  7. 蝕刻製程
    8.
  8. 半導體乾蝕刻技術pdf
    9.