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最常使用之晶圓表面清潔步驟為濕式化學法(wet chemistry)

因此，要如何清洗晶圓，以期超潔淨度之需求，是目前ULSI 製程中，非常 ... 晶圓濕式蝕刻之原理 ... 這種清洗是光阻經臭氧電漿去灰後，再經硫酸清洗。

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