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最常使用之晶圓表面清潔步驟為濕式化學法(wet chemistry)

RCA 濕式清潔法使用於兩種不同化學配方溶液，也 ... 標準清潔液1(standard clean 1)為NH4OH/H2O2/H2O ... 而這些微細圖形最要的形成方式，就是蝕刻(Etching)技術。

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