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I440074 - 國立交通大學

本發明首先提供一異質基板,再以分子束磊晶法. (Molecular Beam Epitaxy,MBE)沉積形成具有平滑表面的. 第一層三族氮化物於該異質基板上,係可用以抑制螺旋線差. 排(Screw ...

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