專利文獻4中記載作為SiO 2或SiN之選擇性蝕刻劑,1,3,3,3-四氟丙烯對抗蝕劑材料具有較高之選擇性。然而,專利文獻4之實施例中記載SiN與SiO 2具有大致同等程度之蝕刻速率,藉 ...
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