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電漿蝕刻原理

氣體在低壓（ 真空)環境下由電磁場產生，電漿體中的高能離子轟擊晶片表面並與之反應。. 高密度電漿設備乾式蝕刻的蝕刻速率，和電漿內的離子數量呈正比的 ...

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