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RIE-200C蝕刻設備｜莎姆克

反應性離子蝕刻設備. RIE-200C是RIE-10NR的全自動化版設備，專門為大量生產而設計。它具有高精度並可非等向性蝕刻各種矽化膜。 用途. 極大型積體電路裝置中矽的非等向 ...

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