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Wet chemical etching - 半導體晶圓製程 - 政府研究資訊系統GRB

實際上，金屬輔助化學蝕刻（Metal assisted chemical etching, MACE）原理將被運用 ... 本研究的目的為針對低維度矽奈米結構之合成，建立一具尺寸與表面結構可調控性的 ...

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