你即將離開本站

並前往http://www2.nkfust.edu.tw/~jcyu/Course/MEMS%20Lab/Lab2SiO2etch.pdf

Lab2 二氧化矽(SiO2)遮罩蝕刻

實驗目的. 本實驗為對二氧化矽進行濕式蝕刻，將未被光阻覆蓋之二氧化矽，利用BOE（ ... 幾乎不會受到TMAH 與KOH 的蝕刻，但在遮罩圖形轉移方面需以反應式離子蝕刻(RIE).

確定！ 回上一頁

查詢 「蝕刻目的」的人也找了：

  1. 蝕刻原理
    2.
  2. 蝕刻製程ppt
    3.
  3. 半導體蝕刻目的
    4.
  4. 蝕刻製程工作內容
    5.
  5. 蝕刻設備
    6.
  6. 蝕刻技術
    7.
  7. 台積電蝕刻
    8.
  8. 電漿蝕刻
    9.