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TWI624870B - 用於蝕刻速率一致性的方法

可用遠端激發的含氟前驅物形成之電漿流出物來執行矽蝕刻。 ... 化學蝕刻被用於多種目的，包括轉移光阻劑中之圖案進入下層、薄化層或薄化已經存在於表面上之特徵的橫向 ...

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