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行政院國家科學委員會專題研究計畫成果報告- 以高分子作為 ...

製作懸浮結構最關鍵之製程部分，即是保護層的步驟，標準ICP-RIE Bosch製程交替蝕刻中，高分子(CF2). 原是用來當作提高非等向性蝕刻目的之鈍化膜，在非等向性蝕刻後，側壁上 ...

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