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光刻機？曝光機？從製程特性聊怎麼稱呼更合理

最後才會進入”刻”的步驟，這步驟會以液體或電漿，將沒有受到光阻保護的部分蝕刻，蝕刻完畢後經過清洗，就完成這一層的線路。而半導體製程依造設計會有非常 ...

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