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微製程概論(IC 及TFT/LCD)

半導體製程中所用到的標準清洗步驟，其程 ... RCA清洗方法為二段步驟：濕式氧化及錯合反應。 ... 直重覆著上光阻、顯影、薄膜沈積、去光阻、蝕刻等等的步驟，其.

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