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TW201709321A - 乾式蝕刻方法

本發明之乾式蝕刻方法之特徵在於：其係對形成於基板上之矽氧化物層與矽氮化物層之 ... 然而，由於作為對每層分別獨立之步驟進行蝕刻，故伴隨積層數之增加，步驟數亦 ...

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