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台灣半導體蝕刻設備發展現況剖析 - ITIS智網

ESC可在電漿蝕刻時，提供吸附；He Gas System則能快速降低電漿攻擊所產生的高溫。 內文標題 一、國內半導體蝕刻及設備技術介紹二、國內半導體蝕刻設備供應 ...

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