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反應性離子蝕刻 - 國立中興大學-光電半導體製程中心

反應性離子蝕刻(Reactive Ion Etching 簡稱RIE)。最為各種反應器廣泛使用的方法，便是結合(1)物理性的離子轟擊與(2)化學反應的蝕刻。此種方式兼具非等向性與高蝕刻選擇 ...

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