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半導體蝕刻廢液與高濃度有機廢水之整合與資源化利用

蝕刻 廢液含過氧化氫具有腐蝕性、高氧化力特性，. 去光阻廢水則含高濃度的化學需氧量（chemical oxygen demand，COD)而不易處. 理。本研究以廢水資源化再利用之角度，嘗試 ...

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