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感應耦合電漿離子蝕刻製程應用於光通訊元件之開發研究

單晶矽擁有極佳之物理特性，利用上述高深寬比Bosch. 製程與離子蝕刻之等向性蝕刻來製作懸浮的微結構，可以實現機械性能絕佳的微型致動器等. 微機電元件。光通訊技術所發展 ...

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