半導體 第一代材料是矽(Si),矽的帶隙(band gap)寬約是1.17eV;第二代材料是砷化鎵(GaAs),是現今絕大部分通信設備的材料;第三代材料是指帶隙寬在2.3eV及以上的半導體材料 ...
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