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光學鍍膜材料-SiO2 、石英環- 產品介紹

二氧化矽，熔點接近1710℃，為低折射率光學材料，是用於膜層設計上為最基本的材料。 二氧化矽在自然中的狀態，最常見的是石英。因其優越的電絕緣性和工藝的可行性，用途 ...

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