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光阻去除液 - 旋寶好化學

BOE(HF+NH4F) 緩衝氧化層蝕刻劑， SiO2薄膜蝕刻 磷酸(H3PO4) 氯化矽蝕刻 硝酸(HNO3) 混合氫氟酸，蝕刻磷矽玻璃(PSG). 鹼性溶液： 氨水(NH4OH) 清除微塵

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