15, 二氧化矽蝕刻液, Buffered Oxide Etch, 2000.00, 6000.00, FAB DIFF區, 製程用, 700.00, 氫氟酸, 49.00, 氟化銨, 40.00, 醋酸, 5.000, 化學庫房, 40, 氫氟酸、醋酸.
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