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半導體製程技術 - 聯合大學

和表面的矽反應產生氧化薄層，同時氫氟酸將氧化. 薄層溶解移除. ▫ 超純水或醋酸可以用來稀釋蝕刻劑和減緩蝕刻速率. Si + 2HNO.

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