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真空濺鍍
真空濺鍍 的基本原理是在真空鎗體內,以高壓放電於微量氣體(通常為氬氣),來產生電漿,使其成為電子與離子游離的高能狀態。 在濺鍍過程中,高能的氣體離子 ...
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