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半導體元件物理與製程─理論與實務 - 第 194 頁 - Google 圖書結果

蝕刻 可分為兩種基本形式:濕蝕刻(wet etch)和乾蝕刻(dry etch)。 ... 等向性是指所 有的方向(橫和縱方向)都以相同的蝕刻速率來進行蝕刻,而這正是濕式蝕刻所具有的典型 ...

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