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深紫外光波長
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Centura Tetra EUV 先进光掩模刻蚀系统
EUV 光源的波长约为目前深紫外光刻所用光源波长的十五分之一,从而能够进一步微缩特征尺寸。 EUV 光掩膜与传统的光掩膜截然不同,后者是有选择性地透射193nm 波长的光线, ...
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「深紫外光波長」
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