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水阻值半導體
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濕式化學品在半導體製程中之應用
微影製程的發展決定了積體電路代. 表性的指標—元件線寬大小,因此光阻. 材料成為IC製程中十分關鍵的材料。黃. 光步驟包含去水烘烤、黏著層塗佈、光. 阻塗佈、去邊、軟烤、 ...
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