你即將離開本站

並前往https://www.tsri.org.tw/CommonUtilServlet?type=2.84&file=devicesd1s1a1CFd1s1a1C5_B.pdf

最常使用之晶圓表面清潔步驟為濕式化學法(wet chemistry)

其適用於有光阻圖形之二氧化矽蝕刻，因其溶液內含NH4F 用以當化學緩衝劑用。所謂的化學. 緩衝劑就是當少量的強酸或強鹼被加入時，其可抑制PH 值被改變的一種溶液。

確定！ 回上一頁

查詢 「水阻值半導體」的人也找了：

  1. 水阻值影響
    2.
  2. 水阻值co2
    3.
  3. 水阻值越高
    4.
  4. 超純水定義
    5.
  5. 純水水質標準
    6.
  6. 純水導電度
    7.
  7. 水阻值計原理
    8.
  8. 超純水系統流程
    9.