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氯氣用途
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半導體金屬蝕刻機台於預防維修時之污染物逸散控制
半導體金屬蝕刻製程主要使用Cl2(氯氣)、BCl3(氯化硼)等氣體,以. 高能電漿(plasma)離子化產生自由基(free radicals)後使其與晶圓表面之鋁.
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