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藉由不同的結構對全金屬鎳矽化物之研究

接著進入微影（Lithography）及乾蝕刻程序，使用第一道光罩，將主 ... 最後再以磷酸去除氮化矽，那麼具有LOCOS 結構的金氧半元件便有. 了初始的外觀。

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