6.2 不同厚度的氮化矽(Si3N4)抗反射層之反射率 ... 表5.2 PECVD沉積的氮化矽的製程參數。 ... 的,而乾蝕刻通常是一種電漿蝕刻(plasma etching),電漿蝕刻中的.
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