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電漿的基礎原理www.tool-tool.com

互補型金氧半電晶體(CMOS)製程需要至少八道離子佈植步驟：井區、臨界電壓、LDD和源極、汲極佈植製程，在P型金氧半電晶體(PMOS)做完一次後，再為N型金氧半 ...

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